Los equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) que diseña y fabrica ASML son unas de las máquinas más sofisticadas creadas por el hombre. Esta empresa neerlandesa invirtió más de dos décadas en su puesta a punto, y en un principio sus ingenieros creían que era imposible que funcionasen . Todo cambió en 1997. Ese año Jos Benschop, el líder del departamento de investigación, reevaluó si la tecnología UVE era una opción viable. Después de las primeras pruebas se dio cuenta de que la co

• Los ingenieros de ASML tenían cuatro opciones sobre la mesa: 13,5 nm, 11,4 nm, 6,6 nm y 4,8 nm La longitud de onda de 13,5 nm requería introducir en los espejos molibdeno y silicio...
• Las máquinas de litografía UVE que están utilizando TSMC, Intel, Samsung, SK hynix y Micron Technology emplean una longitud de onda de 13,5 nm...
• Para incrementar la resolución apostarán por la misma estrategia que ideó ASML para pasar de los equipos UVE a las máquinas UVE de alta apertura: modificar el valor de apertura desde el 0,55 de las máquinas UVE High-NA...
• Presumiblemente el primer equipo de litografía UVE Hyper-NA estará listo en 2033, por lo que todo parece indicar que a la luz UVE de 13,5 nm le queda cuerda para rato